- 高光子エネルギー真空紫光源のエキシマランプにより有機物洗浄、表面改質に必要な励起酸素原子を発生し、半導体製造装置をはじめ各種フィルム表面改質装置などに利用されております。
エキシマ紫外線照射装置
| 研究開発用エキシマ照射装置 | QEF35ST | 照射エリア 35φmm 出力 126nm:5mW/cm2 172nm:30mW/cm2 193nm:15mW/cm2 222nm:15mW/cm2 |
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| 4インチ照射装置 | QEF100 | 照射エリア 100φmm 出力 126nm:5mW/cm2 172nm:30mW/cm2 193nm:15mW/cm2 222nm:15mW/cm2 |
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| 6インチ照射装置 | QEV160 | 照射エリア 176×176mm 出力 172nm:15mW/cm2 222nm:10mW/cm2 |
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| 6インチ高出力照射装置 | QEF160 | 照射エリア 167×167mm 出力 126nm:5mW/cm2 172nm:50mW/cm2 222nm:20mW/cm2 |
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| 8インチ照射装置 | QEV230 | 照射エリア 230×230mm 出力 172nm:15mW/cm2 222nm:10mW/cm2 |
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| 8インチ高出力照射装置 | QEF230 | 照射エリア 218×218mm 出力 126nm:5mW/cm2 172nm:50mW/cm2 222nm:20mW/cm2 |
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| 12インチ照射装置 | QEV360 | 照射エリア 320×320mm 出力 172nm:15mW/cm2 222nm:10mW/cm2 |
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| 300mm高出力照射装置 | QEF300 | 照射エリア 320×320mm 出力 126nm:5mW/cm2 172nm:50mW/cm2 222nm:20mW/cm2 |
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| フィルム、フラットパネル用 | QEX500 ～ QEX2000 |
照射最大長さ 2500mm 出力 172nm:50mW/cm2 |
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| エキシマランプ |  |
