紫外線照射機器トータルシステムの開発・製造・販売

エキシマ照射装置

 アプリケーション例

 

フォトマスク検査前除電

ウェハ除電(回路破損防止)

ガラス表面有機物除去(ドライクリーニング)

コート前表面改質(密着性向上)

メッキ前表面改質(微細メッキ浸透)

電子基板の接合前処理(密着性向上)

 

 

エキシマランプとは

 

エキシマランプとは、従来の放電灯(水銀ランプやキセノンランプ等)と異なる発光原理、構造で、真空紫外光を照射できる光源です。

エキシマランプでは従来の光洗浄改質で用いられてきた水銀ランプ(波長185nmと254nm)に比べるとフォトンエネルギーが高い、波長172nmの真空紫外光(VUV)を発生します。 

瞬時の点灯消灯が可能で、アイドリングを必要としません。

 

 

ダメージレス表面処理

フォトンエネルギーの高い172nm(真空紫外線)により効率よく炭素結合を切断、活性酸素・オゾン生成を行うことでダメージを与えず表面処理を行えます。 

 

 

高照度・高均一性

独自技術である面全面が発光する”フラットタイプ”によりワーク全面を一括照射できます。全面照射することで高照度で照射ムラのない均一な照射が可能となります。

 

 

製品ラインナップ

フラットタイプ

Semiconductor QEF-300SPC QEF-230SPC QEF-160 QEF-100 QEF-35ST QEF-35ST-V126
波長 172nm 126nm
ユーティリティ N2/冷却水/AC100~240V
分布 ±5% ±7%
照射開口 φ332mm 218×218mm 167×167mm φ100mm φ35mm φ35mm
対応ワークサイズ 12inch 8inch 6inch 4inch
照度(窓面最大) 80mW/cm² 80mW/cm² 30mW/cm² 30mW/cm² 5mW/cm² 5mW/cm²
 
 FPD QEF-1600 QEF-600 QEF-320
波長 172nm
ユーティリティ N2/冷却水/AC100~240V
分布 ±10%
照射開口 70×1570mm 70×620mm 70×312mm
対応ワークサイズ G6 G3
照度(管面最大) 180mW/cm² 180mW/cm² 100mW/cm²
 

チューブタイプ

Semiconductor QEV-360 QEV-230 QEV-160
波長 172nm
ユーティリティ N2/冷却水/AC100~240V
分布 ±15%
照射開口 340×340mm 216×216mm 176×176mm
対応ワークサイズ 12inch 8inch 6inch
照度(窓面最大) 15mW/cm²
 
 FPD QEV-1200 QEV-850 QEV-750 QEV-150
波長 172nm
ユーティリティ N2/冷却水/AC100~240V N2/AC100~240V
分布 ±15%
照射開口 25×1200mm 25×850mm 25×750mm 25×172mm 
対応ワークサイズ 幅1200mm 幅850mm 幅750mm 幅150mm 
照度(管面最大) 50mW/cm²

 

エキシマランプ 面発光 一括照射 紫外線ランプ 172nm UV光源 UV硬化 表面改質 エキシマ Excimer172 紫外線照射装置 紫外線照射器 UV照射器 UV照射装置